光譜分析儀由一個(gè)入射狹縫，一個(gè)色散系統(tǒng)，一個(gè)成像系統(tǒng)和一個(gè)或多個(gè)出射狹縫組成。集信息采集，處理，存儲(chǔ)諸功能于一體，它己被廣泛使用于幾乎所有的光譜測(cè)量，分析及研究工作中，特別適應(yīng)于對(duì)微弱信號(hào)，瞬變信號(hào)的檢測(cè)。在了解了光譜分析儀的投射測(cè)定的相關(guān)內(nèi)容后，我們?cè)賮砜纯从绊懝庾V分析儀測(cè)量的一些內(nèi)在因素。
1.物理干擾
物理干擾是指在樣品轉(zhuǎn)移和蒸發(fā)過程中任何物理因素變化引起的干擾效應(yīng)。屬于此類干擾的因素包括：測(cè)試溶液的粘度、溶劑的蒸氣壓、霧化氣體的壓力等。物理干擾是非選擇性干擾，對(duì)樣品元素的影響基本相似。
制備類似于測(cè)試樣品的標(biāo)準(zhǔn)樣品是消除物理干擾的常用方法。當(dāng)樣品的成分未知或無法匹配時(shí)，可以使用標(biāo)準(zhǔn)添加方法或稀釋方法來減少和消除物理干擾。
2.化學(xué)干擾
化學(xué)干擾是指由測(cè)試元件與其他組件之間的化學(xué)相互作用引起的干擾效應(yīng)。它主要影響測(cè)試元件的原子化效率，并且是原子吸收分光光度法中干擾的主要來源。這是由于在液相或氣相中被測(cè)元素的原子與干擾物質(zhì)的組成之間形成了熱力學(xué)更穩(wěn)定的化合物，這影響了被測(cè)元素化合物的離解和原子化。
消除化學(xué)干擾的方法包括：化學(xué)分離;使用高溫火焰;加入釋放劑和保護(hù)劑等。
3.電離干擾
高溫下原子的電離會(huì)降低基態(tài)原子的濃度，并導(dǎo)致原子吸收信號(hào)降低，這種干擾稱為電離干擾。電離效應(yīng)隨溫度和電離平衡常數(shù)的增加而增加，而隨被測(cè)元素濃度的增加而減小。添加更容易電離的堿金屬元素可以有效消除電離干擾。
4.光譜干擾
光譜干擾包括譜線重疊、光譜通帶內(nèi)存在非吸收線、原子化池內(nèi)的直流發(fā)射、分子吸收、光散射等。當(dāng)采用銳線光源和交流調(diào)制技術(shù)時(shí)，前3種因素一般可以不予考慮，主要考慮分子吸收和光散射地影響，它們是形成光譜背景的主要因素。
5.分子吸收干擾
分子吸收干擾是指由原子化過程中產(chǎn)生的氣體分子，氧化物和鹽分子吸收輻射引起的干擾。光散射是指在霧化過程中生成的固體顆粒會(huì)散射光，從而使散射光偏離光路，并且無法被檢測(cè)器檢測(cè)到，從而導(dǎo)致高吸收值。
